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【远程教育论文】探讨铜首饰的电化学抛光工艺研究(论文范文题目)

星级: ★★★★★ 期刊: 《科技与企业》作者:陈红 周湘宁浏览量:5590 论文级别:热门本章主题:铜片和电化学原创论文: 5156论文网更新时间:12-16审核稿件编辑:Lewis本文版权归属:www.5156chinese.cn 分享次数:2711 评论次数: 6267

导读:铜首饰的电化学抛光工艺研究是一篇关于铜片和电化学的综述论文格式范文,免费分享供广大学者参考,希望对学生们写作论文提供清晰写作思路。

陈红 周湘宁

陕西国际商贸学院 陕西西安 710000

【摘要】本文通过设计实验方案,研究了抛光液中磷酸与水的体积百分比、电流密度以及抛光时间对铜片抛光效果的影响,最后确定了铜首饰抛光液最佳组成和操作的工艺条件,并在铜首饰表面进行实验.

【关键词】电化学抛光;实验;铜首饰

1。引言

近年来,随着工业设备和产品不断向精密化方向发展,传统抛光方法很难满足高精度的抛光要求.如何更有效地提高电化学抛光效率,降低表面粗糙度,一直是国内外学者的研究热点.韦瑶[2]等对电化学抛光影响因素进行描述,陈世波等[3]比较了不锈钢着色前的机械抛光、化学抛光、电化学抛光处理技术的优缺点.

杜炳志等[1]对电化学抛光的原理、特点和影响电

铜首饰的电化学抛光工艺研究
铜片和电化学综述论文格式范文

化学抛光效果的因素进行了介绍,并详细综述近年来电化学抛光技术的新进展.目前,铜及铜合金抛光工艺主要有化学抛光和电化学抛光两种.

2。铜片抛光工艺的选择与实验设计

本次实验所用的是电化学抛光.结合抛光工艺及实验条件的限制,本实验选用磷酸和水为主要组成的抛光液,其组成及工艺条件:H3PO4:200-800ml/L,水:200-800ml/L,Dk:5-20A/dm2,T:室温,t:2-8min,阴极材料:不锈钢片.

电化学抛光后的表面粗糙度主要由抛光前的表面质量和粗糙度决定,缎状表面抛光成光亮表面是由时间、温度、电流密度所控制,这三种因素的组合,会产生低反射或缎状表面.采用延长时间、提高温度、增加电流密度可获得光亮表面.

实验欲通过改变抛光液中磷酸与水的体积百分含量、电流密度和抛光时间,对抛光后的铜片表面粗糙度的影响,最后确定出电化学抛光液的最佳组成及操作工艺条件.

2。1 抛光液中磷酸浓度对抛光表面粗糙度影响

当电流密度为10A/dm2、抛光时间为4min时,研究抛光液中磷酸浓度对铜片抛光效果的影响.铜片表面粗糙度采用TR240便携式粗糙仪来测定,方案如表1-1所示:

下图1与粗糙度测试结果表明:当抛光液中磷酸浓度分别为200ml/L、400ml/L、600ml/L和800ml/L时,抛光后铜片表面的Ra(um)(轮廓的平均偏差)分别为0。186(1)、0。142(2)、0。196(3)、0。115(4),可以推断铜片抛光液中当磷酸和水的体积百分比为8:2(H3PO4:800ml/L,水:200 ml/L)时,抛光后铜片表面光洁度较好.

2。2电流密度对抛光表面粗糙度影响上述实验结果表明,抛光时间4min为定量,H3PO4与水的百分比为8:2时抛光效果较好,则以时间为定量研究电流密度对表面粗糙度的影响.方案如表1-3所示:

粗糙度测试结果与图2表明:当电流密度分别为5A/dm2、10A/dm2、15A/dm2和20A/d

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m2时,抛光后铜片表面的Ra(um)(轮廓的平均偏差)分别为0。247(5)、0。140(6)、0。303(7)和0。106(8),可推断出当电流密度为20A/dm2时,抛光后的铜片表面光洁度较好.

2。3 抛光时间对抛光表面粗糙度的影响

当磷酸和水体积百分比为8:2、电流密度为20A/dm2的时,研究抛光时间对铜片抛光效果的影响,方案如表3-1所示:

图3与粗糙度测试结果表明:当抛光时间t分别为2mi n、4mi n、6min和8min时,抛光后铜片表面的Ra(um)(轮廓

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的平均偏差)分别为0。903(9)、0

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。816(10)、0。596(11)和0。103(12),可以确定当电流密度、磷酸、水一定时,抛光时间t选择在6~8min最好.当电流密度太小时,抛光时间长,工作效率低;电流密度太大,则阳极溶解过快易出现浸蚀.

实验表明:电解抛光的时间的长短,与工件表面上阳极生成物的积累以及形成一定厚度的液体膜所需时间有关,如果在出现抛光效果后再增加抛光时间,反而会造成铜基体表面的过腐蚀.

3。结论

1。通过研究抛光液中磷酸与水的体积百分比、电流密度和抛光时间对铜片抛光表面粗糙度的影响,最后确定出了铜首饰电镀前抛光溶液的最佳组成和操作的工艺条件:H3PO4:

80 0ml/L,水:20 0ml/L,Dk:20A/dm2,t:6~8m i n,阴极材料:不锈钢片,阳极:铜首饰.

2。利用上述抛光液抛光后铜首饰效果图(右图4)

[ 参考文献 ]

1、两例铜基配合物的合成、表征及电化学性能研究(三峡大学材料与化工学院,湖北宜昌443002)[摘要]文章以2,2′-联吡啶、1,10-邻菲罗啉为配体,采用常温溶液法,合成了两例铜基配合物(简记为配合物1和配合物2),利用X射线单晶衍射、红外光谱

2、电化学原理与测试技术课程教学改革基金项目:福州大学研究生院重点课程建设与教学研究项目(Y2013KC07);2015年福州大学第九批高等教育教学改革工程项目邵艳群,李湘祁(福州大学 材料科学与工程学院,福州 福建 350108)摘要

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